北京恒奧德儀器儀表有限公司
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HAD-E表面應力儀(建筑玻璃用.半鋼化及全鋼化)的詳細資料：
表面應力儀(建筑玻璃用.半鋼化及全鋼化) 型號：HAD-E
表面應力儀(建筑玻璃用.半鋼化及全鋼化)主要參數
尺寸：95 X 85 X 32(mm)
采用微型處理器，自動顯示應力值:
屏幕尺寸：70 X 50（mm）
設備精度：±1.5（MPa）
可用于室外環境及生產現場的應力測試：
可以對于垂直幕墻進行應力測試
2.食品二氧化硫檢測儀 食品中二氧化硫殘留量蒸餾裝置 型號：HAD-69
該儀器是根據實驗室蒸餾預處理操作規程，集恒溫加熱、蒸餾終點自動控制、冷卻水循環于一體的新型智能蒸餾處理裝置。該儀器實驗了精密控溫、自動防倒吸、加熱均勻、防暴沸、智能終點控制等功能。使用方便，節能環保。經過計量認證實驗室蒸餾回收率比對驗證，結果準確可靠，回收率達95%以上。
該儀器可廣泛適用于環保、疾控、水產、供排水、高校、科研院所、廠礦企業等各類化學實驗室需要蒸餾處理的場所，如揮發酚、氨氮、凱氏氮油中水分等項目的蒸餾處理及食品中的二氧化硫殘留的蒸餾實驗。
主要技術指標：
﹡加熱方式：采用進口遠紅外陶瓷加熱爐，紅外線輻射加熱（無明火加熱、防水）
﹡整機帶有微沸調節，自動調節加熱功率，防止實驗過程中爆沸。
加熱單元：6個，可單孔單控；
升溫時間：5-8min
﹡蒸餾速度：2-12ml/min（可調）
﹡氮氣裝置：主機設有氮氣總接口，具有氮氣保護功能，可單孔控制氮氣流量（60-600ml/min）
﹡控制模式：采用雙重控制模式，可同時設置蒸餾儀體積重量和蒸餾時間，自動停止加熱。自動化程度高，無需人工看守。
﹡蒸餾終點控制：采用稱重傳感器控制蒸餾終點，可任意設置蒸餾體積重量，自動停止；通過設置控制精度±2ml
單孔功率：0-800W（單爐、可調）
總功率：0-4800W（可調）
冷卻方式：封閉式內循環回流系統，無需外接冷卻水源
配有壓縮機制冷+風冷雙重制冷降溫內循環系統，適合大批量工作，冷凝效果更佳！
防倒吸：設有防真空電磁閥，具有防倒吸功能
時間控制：0-200min（可調）可通設置蒸餾時間自動停止工作.
﹡一鍵式水箱加水，達到液位，蜂鳴報警，自動停止加水。
蒸餾瓶規格：500mlX6
接收瓶規格：接收瓶不受限制（容量瓶、錐形瓶、量筒等）。
標準配置：
主機一臺、冷凝管8只、500ml蒸餾瓶8只、250ml玻璃容量瓶8只、三爪萬用夾6個。氮球裝置8個
合格證一份、儀器操作說明書一份、裝箱清單一份、產品保修單一份
3.電動勻漿機 型號:HAD-500
技術性能
1、 工作條件：環境溫度：溫室——40℃
相對濕度：75%
2、 電機功率：180W
3、 電機最高轉速：12000轉/分
4、 使用電源：單相50周 220伏
5、 定時器：1-5分鐘
6、 整機質量：8.5千克
7、 機身尺寸（長寬高）：25*25*40（厘米）
本儀器勻漿杯(500ml一個，），（連勻漿刀）采用不銹鋼制作。
4.電動勻漿儀 可調高速分散均質機 型號：HAD-J200S
一、HAD-J200S可調高速分散均質機，采用控硅高速度的調節系統，使用方便。主要用于動物，植物組織勻漿粉碎，細胞分散。
二、特點
1、 采用內吸式勻漿結構，高速度。能進行對不相溶的兩液體之間高效勻漿、乳化和水中微量有機化合物、脂溶物及對有機溶媒可溶性物質的萃取。
2 、對各種動物、植物的組織均能達到勻漿和混和目的。
3 、能使細胞膜破裂至核分離，并能用不同速度使DNA鏈斷裂，或使大分子物質斷裂成小分子物質
三HAD-J200S技術參數：
1、電機轉速: 20000轉/分
2、大勻漿刀: 8000-18000轉/分
3、小勻漿刀: 8000-20000轉/分
4、連續工作時: ≤5分鐘
5、功 率:185W
6、電源電壓:220V 6OHz
7、整機重機:5kg
5.金屬鍍層測厚儀 型號：HAD-1
電解測厚儀是結合國內外的金屬鍍層電解測厚儀，具有結構先進，性能穩定可靠，功能齊全的特點。使用本儀器可以保障用戶單位的產品質量，防止原材料的能源的浪費。利用本儀器還可以幫助用戶找到適合不同要求的電鍍工藝，是有關成品廠及電鍍廠的儀器
主要功能和特點：
1、本產品采用美國進口芯片處理數據，具有高速串口、高速A/D、精準、兼容、抗干擾、壽命長。
2、中、英文界面切換液晶LCD顯示，具體顯示質量高、數字式接口、體積小重量輕、功耗低等優點。
3、熱敏打印機不用更換色帶。微型打印接口中、英文測試報告打印，打印鍍層種類、厚度、測試人員、日期，內部時鐘萬年歷，無需每次設置。
4、自動暫停測量提示更換電解液。以減少測量誤差。
5、自動計算平均值。10微米以下是三位小數，精度1/1000。
6、可測多層鍍如：Cr/Ni/Cu/塑料，報告可一次性打印出結果，不用分解打印
7、采用美國進口標準片，校準和標定達到測量誤差值。可調導電系數減小誤差。
8．調整終點電位差，以適應鍍層與基體之間電位。
9．以測量70種以上金屬鍍層基體組合，可以測量平面、曲面上的鍍層，可以測量小零件、導線、線狀零件
10．除鍍速度0.3-40 μm/分鐘可調
11．真空擠壓式氣泵循環攪拌,根據鍍層可調整攪拌力度氣量大小，以達到溶解狀態,。
12．電解杯抗腐合金不銹鋼，不易腐蝕老化。
13、可調恒電流達到電解效率值。
14、操作界面功能矩陣按鍵直觀方便操作測量，輸入可直接完成.
15、矩陣按鍵采用進口歐姆龍或NKK，具有1000萬次以上壽命。
4.技術參數：
1. |
單層測量品種： | 鎳（0）；鉻（1）；銅（2）；鋅（3）；鎘（4）；錫（5）；鉛（6）銀（7）；金（8）；銅/Zn（9）；鉻/T（10）；鎳/Fe（11）等，其它鍍層可定制。注：A、鎳（0）是用于銅上鍍鎳；鎳/Fe（11）是用于鐵、鋁、塑料、陶瓷上鍍鎳，在測化學鎳時用慢速測量。B、鉻（1）用于裝飾鉻和六、四價鉻（0.001-20μm）;鉻/T（10）用于厚鉻20微米以上。C、銅（2）用于鐵、鋁、塑料、陶瓷等鍍銅；銅/Zn（9）用于鋅、鋅合金上鍍銅。 |
2. | 合金鍍層測量： | Pd-Sn、Cu-Zn、Zn-Ni 、Ni-P等。 |
3． | 多層鍍測量： | 陶瓷塑料、鐵、鋁、銅基體上鍍多層。 |
4. | 有效測量厚度范圍： | 0.03~300μm |
5. | 測量準確度： | ±8% |
4. | 復現精度： | <3% |
6. | 電解電流精度： | ±0.5% |
7. | 測量面直徑： | Φ3.0mm；Φ2.5mm；Φ1.7mm； |
8. | 供電電源： | A C220±10%V；0.7A；50HZ/60HZ±0.5HZ；需有良好可靠接地。 |
9. | 選購： | AC115V，100V，120V，230V，240V |
10. | 使用環境： | 溫度：+10~+40℃；相對濕度：不大于85%；要求周圍無強腐蝕性氣體和強磁場干擾。 |
11. | 主機重量： | 6Kg； |
12. | 外型尺寸： | 350×260×160mm（長×寬×高） |
以上參數資料與圖片相對應
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